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📝摘要国产光刻胶实现量产突破，孙逸民团队主导的ArF光刻胶中试线通过客户端验证，良率稳定92%以上，进入三家主流晶圆厂采购名录，预计明年百吨级供货。孙逸民二十年专注高端光刻胶研发，解决浸没式光刻工艺膜厚均匀性难题，颗粒杂质控制达ppb级cast。突破带动上游电子级光酸产生剂和树脂单体国产化，核心原料自主供应比例明年达60%，倒逼国际厂商降价15%至20%。团队已启动EUV光刻胶预研，目标2028年前完成原型验证，推动光刻胶产业创新联盟建设。现状：国产光刻胶突破背后的关键推手**2025年...